Россия создает свою лазерную установку для литографии: новый этап в развитии полупроводниковой промышленности

Заместитель главы Минпромторга России Василий Шпак сообщил о прогрессе в создании отечественной лазерной установки для литографии. По его словам, аппарат будет готов не раньше 2026 года, что позволит России стать третьей страной, выпускающей такие установки, после Японии и США.
На данный момент специалистами ГК "Лассард" созданы первые прототипы лазера, и их полноценные испытания запланированы на будущий год. К 2026 году планируется наладить массовое производство отечественного литографического лазера. Этот аппарат будет использоваться в оборудовании, позволяющем производить 350-нанометровую полупроводниковую продукцию.
Помимо этого, ведутся работы по освоению еще более тонких техпроцессов. Разрабатываются необходимые материалы и предварительные разработки по установкам на 90 и 65 нм. Эти усилия направлены на то, чтобы Россия могла конкурировать с мировыми лидерами в области полупроводниковой промышленности.